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emsdiasum Fluoromount-G熒光封片劑

更新時(shí)間:2020-10-11      點(diǎn)擊次數(shù):1143

 

emsdiasum Fluoromount-G熒光封片劑—經(jīng)典的抗熒光淬滅封片劑

摘要

熒光淬滅(quench)是指熒光分子由內(nèi)部因素和外部因素同時(shí)作用造成的不可逆破壞。內(nèi)部因素主要是分子從激發(fā)態(tài)回到基態(tài)以非輻射躍遷形式釋放能量。外部因素則通常是因?yàn)闊晒夥肿釉诩ぐl(fā)光的照射下,經(jīng)歷多次激發(fā)/發(fā)射過程后,造成分子內(nèi)部結(jié)構(gòu)發(fā)生不可逆的變化,從而導(dǎo)致其不能吸收更多的光子,影響進(jìn)一步發(fā)射熒光。

 

 

熒光的淬滅:熒光淬滅(quench)是指熒光分子由內(nèi)部因素和外部因素同時(shí)作用造成的不可逆破壞。內(nèi)部因素主要是分子從激發(fā)態(tài)回到基態(tài)以非輻射躍遷形式釋放能量。外部因素則通常是因?yàn)闊晒夥肿釉诩ぐl(fā)光的照射下,經(jīng)歷多次激發(fā)/發(fā)射過程后,造成分子內(nèi)部結(jié)構(gòu)發(fā)生不可逆的變化,從而導(dǎo)致其不能吸收更多的光子,影響進(jìn)一步發(fā)射熒光。我們也稱之為該分子被光“漂白”了。同時(shí),當(dāng)激光功率高時(shí),熒光分子有可能在高強(qiáng)度的激光下被“漂白”,造成熒光淬滅現(xiàn)象。需要注意的是,當(dāng)熒光物質(zhì)濃度過大時(shí),也可能會(huì)產(chǎn)生自淬滅現(xiàn)象。

能夠引起熒光淬滅的物質(zhì)稱淬滅劑。如鹵素離子、重金屬離子、具有氧化性的有機(jī)化合物(硝基化合物、重氮化合物、羰基化合物和羥基化合物)及氧分子等。在具體操作實(shí)驗(yàn)中,要注意上述淬滅劑對(duì)實(shí)驗(yàn)可能造成影響。

 

產(chǎn)品名稱及描述品牌貨號(hào)
Fluoromount-G熒光封片劑emsdiasum17984-25
DAPI-Fluoromount-G熒光封片劑emsdiasum17984-24
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